布局丨英伟达攻入芯片制造，携手台积电、ASML推进2纳米工艺
作者：admin 发布日期：2023-03-23
浏览次数：0
当地时间3月21日，英伟达在GTC 2023上正式宣布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）三大半导体巨头合作，将英伟达加速运算技术用于芯片光刻中的计算光刻中，并推出用于计算光刻的软件库“cuLitho”。
英伟达先进技术副总裁Vivek Singh透露，入局芯片光刻领域这个小众市场，是源于英伟达CEO黄仁勋的远见，他意识到计算光刻对于半导体未来的决定性作用，因此与台积电、ASML、新思科技共同合作准备了4年，推出cuLitho，将计算光刻速率加速了40倍以上。
“半导体产业是世界上几乎所有其他产业的基础。”在GTC大会的主题演讲上，黄仁勋称，随着产业向更高芯片制程进军，算力需求也大幅增加，芯片光刻工艺愈加复杂。从原理上来看，光刻机就是用光把图案投射到硅片上，一方面需要让投射图案尽可能地小，可以在一平方毫米中塞入成千上万，甚至数亿个晶体管；另一个则要让生产效率最高，出产尽量多的晶圆。为了让光刻的图案足够准确，“计算光刻”这道工序便不可或缺。计算光刻应用逆物理算法来预测掩膜板上的图案，通过模拟光通过光学元件并与光刻胶相互作用时的行为，以便在晶圆上生成最终图案。
cuLitho潜在的好处是可能降低光刻中掩膜板的使用量，进一步降低芯片生产成本。针对台积电2nm工艺，黄仁勋指出：借助cuLitho，台积电可以缩短原型周期时间，提高晶圆产量，减少芯片制造过程中的能耗，并为2nm及以上先进制程的生产做好准备。据悉，台积电将于本年6月对cuLitho进行生产资格认证，并在2024年对2nm制程开始风险性试产，2025年量产。
据英伟达介绍，计划将cuLitho软件库集成至台积电的制造流程中，结合Synopsys的EDA软件，ASML也计划将GPU支持整合到所有的计算光刻软件产品中。在几大芯片供应链巨头共同合作下，可推动半导体行业向更先进芯片制程进军，加速芯片上市时间，提高晶圆厂运行效率，以推动制造过程的大型数据中心的能源效率来改善芯片生产。（文章来源：SEMI）
